Lineaarinen opas puolijohdekiekkojen prosessointisovellusten eduissa
Lineaarinen opas puolijohdekiekkojen prosessoinnin alalla merkittävien etujen soveltamisessa, erityisesti seuraavissa näkökohdissa:
Erittäin varmuuttaja: Vastauksena fotolitografiaprosessin suuren tarkkuuden kysyntään keraaminen lineaarinen opas otetaan käyttöön, karheus RA: lla<0.05μm after special polishing treatment, and with advanced drive and feedback system, sub-micrometer accurate positioning can be realized. This ensures the precise alignment of the mask plate and wafer in the photolithography process, guaranteeing the accuracy of the chip's critical dimensions (CD), such as a 12-inch wafer fab after the application of the key dimensions of the chip manufacturing deviation reduced by 40%, which greatly improves the precision and yield of chip manufacturing.
Suuri puhtaus: Puolijohteiden valmistusympäristö vaatii erittäin suurta puhtautta, keraaminen lineaarinen opas itse ei ole helppoa adsorboida hiukkasia, ja se voi ajaa vakaasti tyhjiöympäristössä, vähentämällä tehokkaasti kiekkojen pilaantumisen oppaan aiheuttamia epäpuhtauksia, jotta vältetään puuttumisen aiheuttamat hiukkasten aiheuttamat hiukkaset.
Korkea vakaus ja vahva reagointikyky: Etsattaessa ja muissa prosesseissa, kiekkojen prosessoinnissa on usein aloituspysähdytys- ja suunnanmuutos, optimoitu pallonkiertojärjestelmä lineaarisen oppaan jälkeen, voi tehdä liukusäätimen kommutointikihdytyksen 15G: iin saakka, samanaikaisesti, liikkeen virheenhallinnan sileys ± 0. Tarjoa suojaa, paranna tuotannon tehokkuutta. Järjestelmä on suunniteltu tarjoamaan jatkuvuus ja vakaus kiekkojen käsittelyyn ja parantamaan tuotannon tehokkuutta.
